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NIKON NSR-S203B
    説明
    Lithography Stepper
    構成
    - DUV Scanner: 8" - Reticle size: 6" - NA: 0.68 - Light Source: KRF Excimer Laser CYMER ELS5400 - Reduction Ratio: 1:4 - Field: 22 mm X 33 mm - Wafer Loader Type 3 - Resolution: 180 nm - Temperature controller - Loader controller (WL/RL) - PCB Controller rack - Isolation transformer - Standard BMU PPD - Bar code reader
    OEMモデルの説明
    Stepper. NSR-S203B (resolution ≦ 180 nm). Ability to mass manufacture ICs with ultra-high-precision circuitry–specifically, sub-0.18µm minimum-pattern linewidth.
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    NIKON

    NSR-S203B

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    検証済み

    カテゴリ
    248nm DUV

    最終検証： 18日前

    主なアイテムの詳細
    状態：

    Used

    稼働ステータス:

    不明

    製品ID：

    103937

    ウェーハサイズ：

    不明

    ヴィンテージ：

    不明

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    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
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    NIKON NSR-S203B

    NIKON

    NSR-S203B

    248nm DUV
    ヴィンテージ： 0状態： 中古
    最終確認18日前

    NIKON

    NSR-S203B

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    検証済み
    カテゴリ
    248nm DUV
    最終検証： 18日前
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    主なアイテムの詳細
    状態：

    Used

    稼働ステータス:

    不明

    製品ID：

    103937

    ウェーハサイズ：

    不明

    ヴィンテージ：

    不明

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    Available
    Money Back Guarantee
    Available
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    Available
    Refurbishment Services
    Available
    説明
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    構成
    - DUV Scanner: 8" - Reticle size: 6" - NA: 0.68 - Light Source: KRF Excimer Laser CYMER ELS5400 - Reduction Ratio: 1:4 - Field: 22 mm X 33 mm - Wafer Loader Type 3 - Resolution: 180 nm - Temperature controller - Loader controller (WL/RL) - PCB Controller rack - Isolation transformer - Standard BMU PPD - Bar code reader
    OEMモデルの説明
    Stepper. NSR-S203B (resolution ≦ 180 nm). Ability to mass manufacture ICs with ultra-high-precision circuitry–specifically, sub-0.18µm minimum-pattern linewidth.
    ドキュメント

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