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説明
APCVD Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition構成
構成なしOEMモデルの説明
The AMS 2100, a self-contained CVD system for volume production ofSiO 2 , PSG or BPSG films. Continuous processing provides high throughput rates; the optimum deposition rate of 1,100 A/minute provides low-stress films with guaranteed uniformities.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
CVD
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
115776
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
APPLIED MATERIALS (AMAT)
AMS 2100
カテゴリ
CVD
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
115776
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不明
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APCVD Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition構成
構成なしOEMモデルの説明
The AMS 2100, a self-contained CVD system for volume production ofSiO 2 , PSG or BPSG films. Continuous processing provides high throughput rates; the optimum deposition rate of 1,100 A/minute provides low-stress films with guaranteed uniformities.ドキュメント
ドキュメントなし