説明
APCVD Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition構成
構成なしOEMモデルの説明
The AMS 2100, a self-contained CVD system for volume production ofSiO 2 , PSG or BPSG films. Continuous processing provides high throughput rates; the optimum deposition rate of 1,100 A/minute provides low-stress films with guaranteed uniformities.ドキュメント
ドキュメントなし
APPLIED MATERIALS (AMAT)
AMS 2100
検証済み
カテゴリ
CVD
最終検証： 27日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
115776
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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The AMS 2100, a self-contained CVD system for volume production ofSiO 2 , PSG or BPSG films. Continuous processing provides high throughput rates; the optimum deposition rate of 1,100 A/minute provides low-stress films with guaranteed uniformities.ドキュメント
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