PULSAR 2000
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The Pulsar 2000 R&D/Production reactor for single wafer thin film deposition on 200 mm (8 in.) wafers is the first ALCVD reactor for IC production application.
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The Pulsar 2000 R&D/Production reactor for single wafer thin film deposition on 200 mm (8 in.) wafers is the first ALCVD reactor for IC production application.
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