INOVA 3D
カテゴリ
Deposition概要（Overview）
In 2010, Novellus introduced a new version of the INOVA designed for copper barrier-seed applications in TSVs. The IONFLO copper seed in the INOVA 3D enables a four times reduction in the seed thickness required in a 6 micron by 60 micron TSV, significantly reducing the manufacturing cost.
現在の掲載品
0
サービス
検査、保証、鑑定、ロジスティクス
トップ掲載リスト
- 製品が見つかりません