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CENTURA CARINA ETCH

カテゴリ
Dry / Plasma Etch
概要(Overview)

Applied Centura Carina system uses innovative, high-temperature technology to deliver the etch capability essential for scaling logic and memory devices with high-k/metal gates at 45nm and below.

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サービス

検査、保証、鑑定、ロジスティクス

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