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CENTURA SILICON DPS II

カテゴリ
Dry / Plasma Etch
概要(Overview)

For etching advanced conducting films, Applied launched DPS systems in fiscal 2001, the Metal Etch DPS™ II and Silicon Etch DPS™ II Centura systems, offering customers the technology, productivity and reliability required for 100nm and below processing.

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検査、保証、鑑定、ロジスティクス

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