メインコンテンツにスキップ
6" Fab For Sale from Moov - Click Here to Learn More
6" Fab For Sale from Moov - Click Here to Learn More
Moov logo

6" Fab For Sale from Moov - Click Here to Learn More
Moov Icon
市場 > Dry / Plasma Etch > SEMES > MICHELAN C3

MICHELAN C3

カテゴリ
Dry / Plasma Etch
概要(Overview)

Poly etcher. Process performance: Specialized for critical etch process (DRAM, V-NAND and Logic). Fast etch / various control knobs for uniform etch rate. High mask selectivity / high accuracy of CD control. Low Particle / Vertical Etching. Productivity / Hardware: Cluster and quadra type transfer module : Max. 6 chambers. ICP type etcher : high plasma density. Exclusive ICP Source Antenna. RF sync pulse function : high aspect ratio. Multi-zone ESC heating and 3Z-tunable gas radial uniformity control. Low cost and extended MTBC.

現在の掲載品

0

サービス

検査、保証、鑑定、ロジスティクス

トップ掲載リスト

    製品が見つかりません
このような製品をお持ちですか?
Moovに掲載品して、すぐに申し分ない購入者を見つけましょう。