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PHANTOM III

カテゴリ
Dry / Plasma Etch
概要(Overview)

The Phantom III is designed to supply research and failure analysis laboratories with state-of-the-art plasma etch capability using single wafers, dies or parts using fluorine and oxygen based chemistries. The system has a compact, modular design built on a space-saving platform.

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サービス

検査、保証、鑑定、ロジスティクス

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