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FOCUS FE VII

カテゴリ
Elipsometry
概要(Overview)

FOCUS FE VII system is designed for high volume, sub-micron device manufacturing requiring superior film thickness and index of refraction measurements in diffusion, etch, CMP and CVD applications.

現在の掲載品

5

サービス

検査、保証、鑑定、ロジスティクス

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