XLR 600i
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The XLR® 600i, the first 90W ArF light source designed for high volume immersion production and double patterning lithography at 32nm and beyond.
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検査、保証、鑑定、ロジスティクス
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The XLR® 600i, the first 90W ArF light source designed for high volume immersion production and double patterning lithography at 32nm and beyond.
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