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市場 > Lithography > NIKON > FX-63S

FX-63S

カテゴリ
Lithography
概要(Overview)

Resolution (L/S) (switchable): ≦ 3 µm (i-line), ≦ 3.5 µm (g+h+i-line) Projection magnification: 1:1 Overlay: ≦ 0.6 µm Maximum plate size: 1,500 × 1,850 mm Takt time: 73 sec./plate Conditions: 4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2

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