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ELS-S50EX

カテゴリ
Lithography
概要(Overview)

High Performance 50kV Electron Beam Lithography System - The ELS-S50EX system delivers impressive resolution and minimal field stitching error. The system serves a wide variety of lithography applications e.g. electronic devices, optical devices, integrated circuits, MEMS parts and more. The system has a space-saving small footprint

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