CONCEPT TWO "C2" TiN
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MOCVD概要(Overview)
Concept Two Titanium Nitride (TiN) system will be used to form a high quality, low cost barrier/adhesion layer prior to depositing tungsten (W).
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Concept Two Titanium Nitride (TiN) system will be used to form a high quality, low cost barrier/adhesion layer prior to depositing tungsten (W).
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