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CENTURA 5200 DXZ

カテゴリ
PECVD
概要(Overview)

The Centura 5200 DXZ is used for advanced 150mm and 200mm CVD technology in the advanced CMOS and MtM segments. It can be used for ultra-thick oxides (≥20µm), low-temperature processing (<200°C), conformal, low wet-etch-rate films, and doped films with tunable refractive indices. The system can handle a variety of MtM substrates (including SiC wafers) reliably and carefully from load lock wafer mapping to clear wafer orientation to wafer placement.

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