説明
PVD (Physical Vapor Deposition)構成
Software Version: Ver. 332-A2 System Power Rating: 3 Phase,AC200V,80A/102A/63A 50/60 Hz Loading Configuration: 3 Load Ports Chm Position F1 PVD Sputter ( 3C ) AR, N2 Chm Position F2 PVD Sputter ( 3C ) AR, N2 Chm Position F4 PVD Sputter ( 3C ) AR, N2 Chm Position B1/B2 Degas Chambers F1,F2,F4 - PVD Chambers ( 3C Sputter process ) B1/B2 - Degas Chambers (Remove moist layer ) System is not configured with substrate bias. System utilizes AE MDX 1KOEMモデルの説明
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ドキュメントなし
ULVAC
ENTRON-EX W300
検証済み
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証: 14日前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
48141
ウェーハサイズ:
12"/300mm
ヴィンテージ:
2011
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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ENTRON-EX W300
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証: 14日前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
48141
ウェーハサイズ:
12"/300mm
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PVD (Physical Vapor Deposition)構成
Software Version: Ver. 332-A2 System Power Rating: 3 Phase,AC200V,80A/102A/63A 50/60 Hz Loading Configuration: 3 Load Ports Chm Position F1 PVD Sputter ( 3C ) AR, N2 Chm Position F2 PVD Sputter ( 3C ) AR, N2 Chm Position F4 PVD Sputter ( 3C ) AR, N2 Chm Position B1/B2 Degas Chambers F1,F2,F4 - PVD Chambers ( 3C Sputter process ) B1/B2 - Degas Chambers (Remove moist layer ) System is not configured with substrate bias. System utilizes AE MDX 1KOEMモデルの説明
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