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HELIOS

カテゴリ
RTP/RTA
概要(Overview)

Helios family RTP systems offer unique double-side heating RTP technology. It can achieve the highest wafer temperature ramp rate while balancing wafer frontside and backside temperatures, eliminate pattern-loading effect, provide unique wafer stress management capabilities, satisfy technical requirements for RTP processes with different substrate thickness and device structures, and achieve the highest system productivity at the same time.

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検査、保証、鑑定、ロジスティクス

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