説明
Dry etch system構成
Known issues: Not included: (Qty 2) LPT Dry Pump VHP Robot Handler Process: METAL ETCHER Software Version: E4.7_25OEMモデルの説明
In September 1992, AMAT announced the Centura Poly, a single-wafer, multichamber platform targeted at the high-temperature thin film deposition of polysilicon on wafers up to 200mm (8 inch) in diameter.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
ALD
最終検証： 6日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
154782
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA POLY
カテゴリ
ALD
最終検証： 6日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
154782
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Dry etch system構成
Known issues: Not included: (Qty 2) LPT Dry Pump VHP Robot Handler Process: METAL ETCHER Software Version: E4.7_25OEMモデルの説明
In September 1992, AMAT announced the Centura Poly, a single-wafer, multichamber platform targeted at the high-temperature thin film deposition of polysilicon on wafers up to 200mm (8 inch) in diameter.ドキュメント
ドキュメントなし