説明
Chemical Mechanical Polishing Machine AMAT MIRRA 3400 CMP and OnTrak Clean provide chemical mechanical polishing and wafer cleaning for semiconductor manufacturing.構成
構成なしOEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
APPLIED MATERIALS (AMAT)
MIRRA 3400
検証済み
カテゴリ
CMP
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
114234
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
1999
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
MIRRA 3400
カテゴリ
CMP
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
114234
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
1999
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Chemical Mechanical Polishing Machine AMAT MIRRA 3400 CMP and OnTrak Clean provide chemical mechanical polishing and wafer cleaning for semiconductor manufacturing.構成
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