説明
Configured for graphene on Cu foil, graphene sublimation from SiC samples (epitaxial graphene), and H2 etch clean of samples. Condition: Complete / Working Status: Installed in cleanroom構成
FIRST NANO EasyTube 3000 Graphene Furnace Configured: 3" wafers and small pieces Materials: Ar, H2, SiH4, CH4 Quartz chamber with graphite susceptor 10kW RF induction heating 2200C max Fully programmable Turbo pump for low pre-processing base pressure (9.0e-7 Torr)OEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
FIRST NANO
EasyTube 3000
検証済み
カテゴリ
CVD
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
110952
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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FIRST NANO EasyTube 3000 Graphene Furnace Configured: 3" wafers and small pieces Materials: Ar, H2, SiH4, CH4 Quartz chamber with graphite susceptor 10kW RF induction heating 2200C max Fully programmable Turbo pump for low pre-processing base pressure (9.0e-7 Torr)OEMモデルの説明
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