説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
Novellus introduced the Concept Two-Dual ALTUS tungsten deposition system in 1994. The Dual ALTUS is designed with a dual-chamber configuration that delivers the throughput power to dramatically lower the cost of tungsten deposition. It is considered the best solution in the industry for very high volume 200mm wafer fabs producing state-of-the-art 0.35um semiconductor devices.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
CVD
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
136416
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
LAM RESEARCH / NOVELLUS
CONCEPT TWO "C2" DUAL ALTUS
カテゴリ
CVD
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
136416
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
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構成なしOEMモデルの説明
Novellus introduced the Concept Two-Dual ALTUS tungsten deposition system in 1994. The Dual ALTUS is designed with a dual-chamber configuration that delivers the throughput power to dramatically lower the cost of tungsten deposition. It is considered the best solution in the industry for very high volume 200mm wafer fabs producing state-of-the-art 0.35um semiconductor devices.ドキュメント
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