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221

カテゴリ
Defect Inspection
概要(Overview)

The KLA-221 Automatic Reticle and Photomask Inspection System allows you to inspect photomasks, multi-die reticles, single-die reticles and glass wafers for both random and repeating defects. This versatile, high­ performance production system employs both die-to-die and die-to-database inspection technology.

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検査、保証、鑑定、ロジスティクス

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