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説明
Metal CVD (Chemical Vapor Deposition)構成
構成なしOEMモデルの説明
Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Deposition
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
113702
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA AP ISPRINT
カテゴリ
Deposition
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
113702
ウェーハサイズ：
12"/300mm
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不明
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Metal CVD (Chemical Vapor Deposition)構成
構成なしOEMモデルの説明
Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.ドキュメント
ドキュメントなし