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APPLIED MATERIALS (AMAT) CENTURA AP ISPRINT
    説明
    Metal CVD (Chemical Vapor Deposition)
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA AP ISPRINT

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    検証済み

    カテゴリ
    Deposition

    最終検証: 17日前

    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    113705


    ウェーハサイズ:

    12"/300mm


    ヴィンテージ:

    不明


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
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    APPLIED MATERIALS (AMAT) CENTURA AP ISPRINT

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA AP ISPRINT

    Deposition
    ヴィンテージ: 0状態: 中古
    最終確認17日前

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    CENTURA AP ISPRINT

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    検証済み
    カテゴリ
    Deposition
    最終検証: 17日前
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    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    113705


    ウェーハサイズ:

    12"/300mm


    ヴィンテージ:

    不明


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    Available
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    Available
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    Metal CVD (Chemical Vapor Deposition)
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    Employing a unique, “selective” suppression mechanism, the Centura® iSprint™ ALD/CVD SSW process delivers the industry’s first bottom-up CVD W gap fill, free of voids and seams. It optimizes the volume of W, creating more robust features and helping to improve yield.
    ドキュメント

    ドキュメントなし

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    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA AP ISPRINT

    Depositionヴィンテージ: 0状態: 中古最終検証:17日前
    APPLIED MATERIALS (AMAT) CENTURA AP ISPRINT

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA AP ISPRINT

    Depositionヴィンテージ: 0状態: 中古最終検証:17日前
    APPLIED MATERIALS (AMAT) CENTURA AP ISPRINT

    APPLIED MATERIALS (AMAT)

    CENTURA AP ISPRINT

    Depositionヴィンテージ: 2006状態: 中古最終検証:60日以上前