説明
HDP CVD (Chemical Vapor Deposition)構成
構成なしOEMモデルの説明
The Centura and Centura AP mainframe single-wafer, multi-chamber architectures enable integrated, sequential wafer processing in up to four process chambers for 150mm, 200mm, and 300mm wafers.ドキュメント
ドキュメントなし
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA AP
検証済み
カテゴリ
Dry Etch
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
48715
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
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Logistics Support
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Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA AP
検証済み
カテゴリ
Dry Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
48715
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
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Available
説明
HDP CVD (Chemical Vapor Deposition)構成
構成なしOEMモデルの説明
The Centura and Centura AP mainframe single-wafer, multi-chamber architectures enable integrated, sequential wafer processing in up to four process chambers for 150mm, 200mm, and 300mm wafers.ドキュメント
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