説明
Mainframe: 300mm構成
300mm DPS Metal chamber with 200mm ESCOEMモデルの説明
The CENTURA AP DPS II delivers high-productivity silicon, metal, and dielectric etch. Etching is one of the most critical yet challenging of semiconductor production operations. Metal Etchドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
122819
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA AP DPS II
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
122819
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2001
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Mainframe: 300mm構成
300mm DPS Metal chamber with 200mm ESCOEMモデルの説明
The CENTURA AP DPS II delivers high-productivity silicon, metal, and dielectric etch. Etching is one of the most critical yet challenging of semiconductor production operations. Metal Etchドキュメント
ドキュメントなし