CENTURA METAL DPS
概要（Overview）
Two new etch systems were launched in 1996 for HDP etching of metal and silicon films, using AMAT's DPS (Decoupled Plasma Source) technology. The DPS Metal Etch Centura and DPS Silicon Etch Centura are aimed at very advanced applications, primarily for deep submicron devices (0.25-micron).
現在の掲載品
10
サービス
検査、保証、鑑定、ロジスティクス
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
Dry / Plasma Etchヴィンテージ： 2007状態： 中古最終確認60日以上前APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
Dry / Plasma Etchヴィンテージ： 2006状態： 中古最終確認60日以上前APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
Dry / Plasma Etchヴィンテージ： 状態： 中古最終確認60日以上前APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
Dry / Plasma Etchヴィンテージ： 状態： 中古最終確認14日前
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
Dry / Plasma Etchヴィンテージ： 状態： 中古最終確認14日前APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
Dry / Plasma Etchヴィンテージ： 2000状態： 中古最終確認30日以上前APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
Dry / Plasma Etchヴィンテージ： 2000状態： 中古最終確認60日以上前APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA METAL DPS
Dry / Plasma Etchヴィンテージ： 1999状態： 中古最終確認60日以上前