説明
説明なし構成
Wafer EtchingOEMモデルの説明
For etching metals, the Applied Opus AdvantEdge Metal Etch uses an optimized 5-chamber platform configuration that enables customers to extend aluminum interconnect technology and productivity to sub-70nm dimensions for flash and DRAM memory applications.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
129913
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
APPLIED MATERIALS (AMAT)
OPUS ADVANTEDGE METAL ETCH
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
129913
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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Wafer EtchingOEMモデルの説明
For etching metals, the Applied Opus AdvantEdge Metal Etch uses an optimized 5-chamber platform configuration that enables customers to extend aluminum interconnect technology and productivity to sub-70nm dimensions for flash and DRAM memory applications.ドキュメント
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