説明
Asher(2 chamber)構成
構成なしOEMモデルの説明
The Aspen III’s exceptional platform design can handle both 200 mm and 300 mm wafers, and supports special wafer handling including warped and translucent wafers. The unique process chamber architecture can accommodate technical requirements across multiple technology nodes for the most demanding device manufacturers in the industry.ドキュメント
ドキュメントなし
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SELLER
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
Buyer pays 12% premium of final sale price
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
118490
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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MATTSON
ASPEN III
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 60日以上前
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稼働ステータス:
不明
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Asher(2 chamber)構成
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The Aspen III’s exceptional platform design can handle both 200 mm and 300 mm wafers, and supports special wafer handling including warped and translucent wafers. The unique process chamber architecture can accommodate technical requirements across multiple technology nodes for the most demanding device manufacturers in the industry.ドキュメント
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