説明
OXFORD Plasmalab 100 RIE (FL) Reactive Ion Etcher構成
Supports wafer sizes up to 300mm (330mm Platen) RIE set up for SiO2 Etch RF Generator : Advanced Energy RFX 600A ; 600W, 13.56MHz, Chamber Turbo Pump : Alcatel ATH 400M w/ ACT 600M controller Blue color PLC type Water cooled electrode 10C-80C Gas pod with 6 lines including following MFCs: Ar – 100sccm N2 – 200sccm CHF3 – 200sccm NF3 – 200sccm N2O – 200sccm Windows PC , user friendly interface Lauda WK 1200 Chiller was utilized by previous user. Not included.OEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 7日前
主なアイテムの詳細
状態：
Refurbished
稼働ステータス:
不明
製品ID：
138679
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2006
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
OXFORD
PLASMAPRO 100
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証： 7日前
主なアイテムの詳細
状態：
Refurbished
稼働ステータス:
不明
製品ID：
138679
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2006
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
OXFORD Plasmalab 100 RIE (FL) Reactive Ion Etcher構成
Supports wafer sizes up to 300mm (330mm Platen) RIE set up for SiO2 Etch RF Generator : Advanced Energy RFX 600A ; 600W, 13.56MHz, Chamber Turbo Pump : Alcatel ATH 400M w/ ACT 600M controller Blue color PLC type Water cooled electrode 10C-80C Gas pod with 6 lines including following MFCs: Ar – 100sccm N2 – 200sccm CHF3 – 200sccm NF3 – 200sccm N2O – 200sccm Windows PC , user friendly interface Lauda WK 1200 Chiller was utilized by previous user. Not included.OEMモデルの説明
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