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PANASONIC E600L
    説明
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    構成
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    OEMモデルの説明
    Plasma Source: ICP Plasma Process Gas: 2Lines (standard) *Maximum 6 Lines (e.g. Chlorinated Gas, Fluoride Gas, Ar, O2, He ) Applicable Wafer: ø100 mm wafer with orientation flat (standard) *Option : ø50 mm, ø75 mm, ø50 mm (with O.F.) Wafer Material: Silicon (standard) *Option : Quartz, GaAs, Sapphire Machine Dimensions / Weight*1: W 1170 mm × D 2650 mm, H 2100 mm / 1900 kg (Main body only) Power Source*2: Single phase AC 200V, 6 kVA and Three-phase AC 200V, 15 kVA (Main body only) Dry Air: 0.49 M Pa to 0.54 M Pa, 40 L / min [A.N.R.] N 2Source: 0.5 M Pa to 0.7 M Pa, 50 L / min
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    PANASONIC

    E600L

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    検証済み

    カテゴリ
    Dry / Plasma Etch

    最終検証: 60日以上前

    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    104152


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


    Have Additional Questions?
    Logistics Support
    Available
    Money Back Guarantee
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
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    PANASONIC E600L

    PANASONIC

    E600L

    Dry / Plasma Etch
    ヴィンテージ: 0状態: 中古
    最終確認60日以上前

    PANASONIC

    E600L

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    検証済み
    カテゴリ
    Dry / Plasma Etch
    最終検証: 60日以上前
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    主なアイテムの詳細

    状態:

    Used


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    104152


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


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    Plasma Source: ICP Plasma Process Gas: 2Lines (standard) *Maximum 6 Lines (e.g. Chlorinated Gas, Fluoride Gas, Ar, O2, He ) Applicable Wafer: ø100 mm wafer with orientation flat (standard) *Option : ø50 mm, ø75 mm, ø50 mm (with O.F.) Wafer Material: Silicon (standard) *Option : Quartz, GaAs, Sapphire Machine Dimensions / Weight*1: W 1170 mm × D 2650 mm, H 2100 mm / 1900 kg (Main body only) Power Source*2: Single phase AC 200V, 6 kVA and Three-phase AC 200V, 15 kVA (Main body only) Dry Air: 0.49 M Pa to 0.54 M Pa, 40 L / min [A.N.R.] N 2Source: 0.5 M Pa to 0.7 M Pa, 50 L / min
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    Dry / Plasma Etchヴィンテージ: 0状態: 中古最終検証:60日以上前