
説明
ICP Etcher Complete構成
Was used to process Gallium Nitride and diamond Configured for chlorinated plasmas (Cl2 and BCL3 MFC fitted) with also Ar, O2 and N2.OEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
STS
PRO ICP
カテゴリ
Dry / Plasma Etch
最終検証: 4日前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
145586
ウェーハサイズ:
不明
ヴィンテージ:
2007
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
ICP Etcher Complete構成
Was used to process Gallium Nitride and diamond Configured for chlorinated plasmas (Cl2 and BCL3 MFC fitted) with also Ar, O2 and N2.OEMモデルの説明
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