説明
Sputter-up method High-frequency magnetron discharge Target distance 40 to 40 mm Holder 3 Number of substrates mounted 4 Maximum heating temperature 300°C Chamber dimensions φ450x220H Substrate holder dimensions φ350構成
構成なしOEMモデルの説明
Sputtering systemドキュメント
ドキュメントなし
SHIMADZU
HSR-521A
検証済み
カテゴリ
Electronic Test
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
71025
ウェーハサイズ:
不明
ヴィンテージ:
1991
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
SHIMADZU
HSR-521A
カテゴリ
Electronic Test
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID:
71025
ウェーハサイズ:
不明
ヴィンテージ:
1991
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Sputter-up method High-frequency magnetron discharge Target distance 40 to 40 mm Holder 3 Number of substrates mounted 4 Maximum heating temperature 300°C Chamber dimensions φ450x220H Substrate holder dimensions φ350構成
構成なしOEMモデルの説明
Sputtering systemドキュメント
ドキュメントなし