説明
Mainframe構成
(Qty 4) Chambers Process: Anisotrop Procedure: TrenchOEMモデルの説明
The Applied Materials Centura HART Etch System is a 200mm multi-chamber semiconductor processing platform designed primarily for high-aspect-ratio trench (HART) etching.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Etch/Asher
最終検証： 18日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
148059
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2002
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
APPLIED MATERIALS (AMAT)
CENTURA HART
カテゴリ
Etch/Asher
最終検証： 18日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
148059
ウェーハサイズ：
8"/200mm
ヴィンテージ：
2002
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Mainframe構成
(Qty 4) Chambers Process: Anisotrop Procedure: TrenchOEMモデルの説明
The Applied Materials Centura HART Etch System is a 200mm multi-chamber semiconductor processing platform designed primarily for high-aspect-ratio trench (HART) etching.ドキュメント
ドキュメントなし