説明
• Versatile ICP etcher to anisotropically etch most thin film material(s) • Two 5kW 2.45GHz microwave power supplies coupled to 4 independent wave guides deliver high-density free radicals for a gentle chemical etch. • 13.56 MHz power supply powers the cathode to provides bias for anisotropy • Manual load: (3) 6' wafers onto the carrier. then into UL • L/L & process chamber equipped with roughing pump and turbo • Process gases: BC. Cl2. CF4, SF6, C4Fs, 02. & Ar構成
構成なしOEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Etch/Asher
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
135817
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
MEYER BURGER
AP 800
カテゴリ
Etch/Asher
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
135817
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
• Versatile ICP etcher to anisotropically etch most thin film material(s) • Two 5kW 2.45GHz microwave power supplies coupled to 4 independent wave guides deliver high-density free radicals for a gentle chemical etch. • 13.56 MHz power supply powers the cathode to provides bias for anisotropy • Manual load: (3) 6' wafers onto the carrier. then into UL • L/L & process chamber equipped with roughing pump and turbo • Process gases: BC. Cl2. CF4, SF6, C4Fs, 02. & Ar構成
構成なしOEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし