説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 E2 is high current ion implanter that is configured for 200mm nodes with 13 batch wafers. It has 4 Cassette table (280 mm),2 Load buffer and 1 Dummy buffer. The input Power is 208 V, 60 Hz, 3 Phase, 95 A, 35 KVA and Output power is 90 KeV, 20 mA. Its vaccum system specifications are: A2203C, SEIKO SEIKI P1 Source turbo; STP-A2203C, SEIKO SEIKI P1 Controller; CTI OB-8 P2/Beamguide Cyro pump. Its other configurations include: 2 Ground bars; CTI_CRYOGENICS, 9650 compressor.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
High Current
最終検証： 2日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
150275
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
SEN CORPORATION / SUMITOMO
NV GSD 200E2
カテゴリ
High Current
最終検証： 2日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
150275
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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Available
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Available
Refurbishment Services
Available
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EATON NOVA / AXCELIS GSD 200 E2 is high current ion implanter that is configured for 200mm nodes with 13 batch wafers. It has 4 Cassette table (280 mm),2 Load buffer and 1 Dummy buffer. The input Power is 208 V, 60 Hz, 3 Phase, 95 A, 35 KVA and Output power is 90 KeV, 20 mA. Its vaccum system specifications are: A2203C, SEIKO SEIKI P1 Source turbo; STP-A2203C, SEIKO SEIKI P1 Controller; CTI OB-8 P2/Beamguide Cyro pump. Its other configurations include: 2 Ground bars; CTI_CRYOGENICS, 9650 compressor.ドキュメント
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