説明
HE-Ion Implanter Comes with pumps and chillers構成
-High energy batch implant tool, 200mm capability -Energy range 10 – 3750keV -10-site-disk → 10 wafers per batch @200mm wafer diameter, automatic handling system, -Fully automated gas box → 4 gas modules •Argon (factory inlet), •PH3 SDS® •AsH3 SDS® •BF3 SDS® -On-Board-Argon option installed (semi automated filling of stripper reservoirs), -SECS/GEM Factory automation available, Software version 6.41OEMモデルの説明
提供なしドキュメント
APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
KESTREL
検証済み
カテゴリ
High Current
最終検証： 16日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Installed / Running
製品ID：
111719
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2003
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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カテゴリ
High Current
最終検証： 16日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
Installed / Running
製品ID：
111719
ウェーハサイズ：
不明
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