説明
Asher構成
2x PM, EFEM, GHW50A x3( 1ea Missing)OEMモデルの説明
The GAMMA 2130 system is a front-end-of-line (FEOL) photoresist strip system for 300mm wafers. Our multi-station sequential processing architecture incorporates six stations within a single process chamber, enabling a 30 percent higher throughput rate when compared to that of the closest competitor.ドキュメント
ドキュメントなし
LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS
GAMMA 2130
検証済み
カテゴリ
ICP
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
96117
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
2005
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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LAM RESEARCH / NOVELLUS / GASONICS
GAMMA 2130
検証済み
カテゴリ
ICP
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
96117
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
2005
Logistics Support
Available
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Available
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Asher構成
2x PM, EFEM, GHW50A x3( 1ea Missing)OEMモデルの説明
The GAMMA 2130 system is a front-end-of-line (FEOL) photoresist strip system for 300mm wafers. Our multi-station sequential processing architecture incorporates six stations within a single process chamber, enabling a 30 percent higher throughput rate when compared to that of the closest competitor.ドキュメント
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