説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
The DWL 66 is a precise, maskless laser lithography system for various applications like maskless lithography, photomask making, and direct writing. It supports gray-scale exposures on flat, photosensitive-coated materials. Key features include a minimum feature size of 0.6 microns, substrate size up to 200 x 200 mm, and over 1.0M dpi resolution using a 20-nanometer address grid.ドキュメント
ドキュメントなし
HEIDELBERG INSTRUMENTS
DWL 66
検証済み
カテゴリ
Lithography
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
55382
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
HEIDELBERG INSTRUMENTS
DWL 66
検証済み
カテゴリ
Lithography
最終検証： 60日以上前
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状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
55382
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
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The DWL 66 is a precise, maskless laser lithography system for various applications like maskless lithography, photomask making, and direct writing. It supports gray-scale exposures on flat, photosensitive-coated materials. Key features include a minimum feature size of 0.6 microns, substrate size up to 200 x 200 mm, and over 1.0M dpi resolution using a 20-nanometer address grid.ドキュメント
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