説明
説明なし構成
lot of spare parts+stock of hard copy manualsOEMモデルの説明
The Varian 350D is a medium current ion implanter that is capable of implanting Boron (B11 or BF2) or Phosphorous (P31) in 4” or 6” wafers with doses of 1E12 to 5E15. Implant energy levels can be adjusted from 10KeV and 200 KeV1. It is set up for 100mm and 150mm round substrates. It has applications in power devices, memory, logic, analog, discrete and MEMS.ドキュメント
ドキュメントなし
APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
350D
検証済み
カテゴリ
Medium Current
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Parts Tool
稼働ステータス:
不明
製品ID:
82169
ウェーハサイズ:
不明
ヴィンテージ:
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
同様のリスト
すべて表示APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
350D
カテゴリ
Medium Current
最終検証: 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態:
Parts Tool
稼働ステータス:
不明
製品ID:
82169
ウェーハサイズ:
不明
ヴィンテージ:
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
説明なし構成
lot of spare parts+stock of hard copy manualsOEMモデルの説明
The Varian 350D is a medium current ion implanter that is capable of implanting Boron (B11 or BF2) or Phosphorous (P31) in 4” or 6” wafers with doses of 1E12 to 5E15. Implant energy levels can be adjusted from 10KeV and 200 KeV1. It is set up for 100mm and 150mm round substrates. It has applications in power devices, memory, logic, analog, discrete and MEMS.ドキュメント
ドキュメントなし