説明
Implanter Manuals and Drawings構成
構成なしOEMモデルの説明
The Varian 350D is a medium current ion implanter that is capable of implanting Boron (B11 or BF2) or Phosphorous (P31) in 4” or 6” wafers with doses of 1E12 to 5E15. Implant energy levels can be adjusted from 10KeV and 200 KeV1. It is set up for 100mm and 150mm round substrates. It has applications in power devices, memory, logic, analog, discrete and MEMS.ドキュメント
ドキュメントなし
APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
350D
検証済み
カテゴリ
Medium Current
最終検証： 30日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
117114
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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APPLIED MATERIALS (AMAT) / VARIAN
350D
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最終検証： 30日以上前
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状態：
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不明
製品ID：
117114
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不明
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The Varian 350D is a medium current ion implanter that is capable of implanting Boron (B11 or BF2) or Phosphorous (P31) in 4” or 6” wafers with doses of 1E12 to 5E15. Implant energy levels can be adjusted from 10KeV and 200 KeV1. It is set up for 100mm and 150mm round substrates. It has applications in power devices, memory, logic, analog, discrete and MEMS.ドキュメント
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