説明
LIT_MET_Scatterometry_ FinFET構成
構成なしOEMモデルの説明
The SpectraShape 10K optical-based metrology system was introduced to measure the CDs and three-dimensional shapes of complex IC device structures following etch, chemical mechanical planarization (CMP) and other process steps. Several new optical technologies including a new high brightness light source illumination enable accurate measurements of critical parameters in FinFET and 3D NAND devices.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Metrology
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
128075
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
KLA
SpectraShape 10k
カテゴリ
Metrology
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
128075
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
LIT_MET_Scatterometry_ FinFET構成
構成なしOEMモデルの説明
The SpectraShape 10K optical-based metrology system was introduced to measure the CDs and three-dimensional shapes of complex IC device structures following etch, chemical mechanical planarization (CMP) and other process steps. Several new optical technologies including a new high brightness light source illumination enable accurate measurements of critical parameters in FinFET and 3D NAND devices.ドキュメント
ドキュメントなし