説明
No missing parts構成
AMEC PD5 MoCVD Process Application : GaN Power Epitaxy Wafer Type : 11x4”, 6x6”, 3x8” GaN on Silicon/SiC Transfer Module : Yes, able to support up to 4 chambers Pump : Edwards iXH645H Chiller : SMC MFCs Type : Horiba MO Configuration : TMGa1/2, TMAl1/2, TEGa, Cp2Fe, TMIn, Cp2Mg Doping Source : 2x External Dopant inlet Inline Purifiers : H2, N2, NH3 Dew Point Sensor : H2, N2OEMモデルの説明
MOCVD system for production of GaN power devicesドキュメント
ドキュメントなし
ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC. CHINA (AMEC)
Prismo PD5
検証済み
カテゴリ
MOCVD
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
97816
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
2020
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
ADVANCED MICRO-FABRICATION EQUIPMENT INC. CHINA (AMEC)
Prismo PD5
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MOCVD
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不明
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不明
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No missing parts構成
AMEC PD5 MoCVD Process Application : GaN Power Epitaxy Wafer Type : 11x4”, 6x6”, 3x8” GaN on Silicon/SiC Transfer Module : Yes, able to support up to 4 chambers Pump : Edwards iXH645H Chiller : SMC MFCs Type : Horiba MO Configuration : TMGa1/2, TMAl1/2, TEGa, Cp2Fe, TMIn, Cp2Mg Doping Source : 2x External Dopant inlet Inline Purifiers : H2, N2, NH3 Dew Point Sensor : H2, N2OEMモデルの説明
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