説明
説明なし構成
Process: RIE nitride and oxide. LoadLock: holds 2 cassettes and has a transfer chamber between the 2 process chambers Materials Exposure: Gas and Silicon wafers. Cortex Computer upgrade and software Dual chamber etcher. Has the vortex computer upgrade. System currently installed in Fab and running. 3 Edwards iQDP80 pumps and 2 Neslab chillers.OEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
PLASMATHERM / UNAXIS
VERSALOCK 700
検証済み
カテゴリ
PECVD
最終検証： 28日前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
105078
ウェーハサイズ：
4"/100mm, 6"/150mm
ヴィンテージ：
1998
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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Process: RIE nitride and oxide. LoadLock: holds 2 cassettes and has a transfer chamber between the 2 process chambers Materials Exposure: Gas and Silicon wafers. Cortex Computer upgrade and software Dual chamber etcher. Has the vortex computer upgrade. System currently installed in Fab and running. 3 Edwards iQDP80 pumps and 2 Neslab chillers.OEMモデルの説明
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