説明
Stepper構成
構成なしOEMモデルの説明
Resolution: ≦ 2.4 µm (isolated pattern), ≦ 3 µm (L/S) Projection magnification: 1:1.25 Exposure field: 120 mm square to 98.78 (H) × 138 (V) mm (≦ ø169.71 mm) Reticle size: 6-in. (0.25-in. thickness) Maximum plate size: 550 × 650 mm Overlay: ≦ 0.5 µm (EGA, |M| + 3σ)ドキュメント
ドキュメントなし
NIKON
FX-601F
検証済み
カテゴリ
Photolithography
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
61726
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
1999
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
NIKON
FX-601F
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Photolithography
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不明
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不明
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Resolution: ≦ 2.4 µm (isolated pattern), ≦ 3 µm (L/S) Projection magnification: 1:1.25 Exposure field: 120 mm square to 98.78 (H) × 138 (V) mm (≦ ø169.71 mm) Reticle size: 6-in. (0.25-in. thickness) Maximum plate size: 550 × 650 mm Overlay: ≦ 0.5 µm (EGA, |M| + 3σ)ドキュメント
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