説明
Upgraded with Allwin21 PC controller DC magnetron Sputter, RF Diode Sputter, RF magnetron Sputter Maximum 4 of 8 inch cathode. Perkin-Elmer 4400 Sputtering Deposition Equipment Delta Cathode Perkin-Elmer 4400 Sputtering Deposition Equipment Delta Cathode small sample to 6 inch wafer 1-2 gas lines with MFC RF Etch Bias function Loadlock heating function Chamber heating function (Occupy one cathode port). Co-Sputter function Reactive sputter function構成
構成なしOEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
検証済み
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証： 9日前
主なアイテムの詳細
状態：
Refurbished
稼働ステータス:
不明
製品ID：
138398
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
PERKIN ELMER
4410
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証： 9日前
主なアイテムの詳細
状態：
Refurbished
稼働ステータス:
不明
製品ID：
138398
ウェーハサイズ：
不明
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不明
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Upgraded with Allwin21 PC controller DC magnetron Sputter, RF Diode Sputter, RF magnetron Sputter Maximum 4 of 8 inch cathode. Perkin-Elmer 4400 Sputtering Deposition Equipment Delta Cathode Perkin-Elmer 4400 Sputtering Deposition Equipment Delta Cathode small sample to 6 inch wafer 1-2 gas lines with MFC RF Etch Bias function Loadlock heating function Chamber heating function (Occupy one cathode port). Co-Sputter function Reactive sputter function構成
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