221
概要（Overview）
The KLA-221 Automatic Reticle and Photomask Inspection System allows you to inspect photomasks, multi-die reticles, single-die reticles and glass wafers for both random and repeating defects. This versatile, high performance production system employs both die-to-die and die-to-database inspection technology.
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検査、保証、鑑定、ロジスティクス
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