説明
Rapid Thermal Processing System for 3 Applications: Implant Activation, Silicide Formation, Oxide Reflow (PSG & BPSG), Alloying Cassette to Cassette Handling of 3”-5” Wafers Microprocessor-controlled 60-100 Wafers per Hour Throughput, Depending on Anneal Cycle 400-1150ºC Steady-State Temperature Range 1-300 Seconds Anneal Time Controlled Ambient for up to 4 Gases構成
構成なしOEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
MATTSON / STEAG / AST
HEATPULSE 2101
検証済み
カテゴリ
RTP/RTA
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
16249
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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