説明
Single Chamber RTP Rapid Thermal Annealing Oxide & Nitride Film Deposition Cassette to Cassette Handling of 4”-6” Wafers 2 Axis Robot for Transporting Wafers to Heating Chamber 400°C to 1300°C Temperature Range Programmable 0-600 sec Steady State Process Time 120 Wafers/Hour Null Cycle (Zero Processing Time) Wafer Cooldown Stage Full Range Dual Pyrometer SECS Communications構成
構成なしOEMモデルの説明
提供なしドキュメント
ドキュメントなし
MATTSON / STEAG / AST
HEATPULSE 2146
検証済み
カテゴリ
RTP/RTA
最終検証： 60日以上前
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
15979
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Have Additional Questions?
Logistics Support
Available
Money Back Guarantee
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
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