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市場 > Steppers & Scanners > ASML > PAS 5500/1100B

PAS 5500/1100B

概要(Overview)

This ASML step and scan tool supports 8" / 200m process nodes. The ASML 5500/1100B lithography system uses ASML's patented Athena wafer alignment system. The stepper is equipped with a 193 nm ArF laser and 0.75 NA and is capable of sub 100nm resolution. Applications for the ASML 5500/1100B include the fabrication of photonic ICs.

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