説明
説明なし構成
構成なしOEMモデルの説明
Third-generation EUV systems ASML’s TWINSCAN NXE:3400B supports EUV volume production at the 7 and 5 nm nodes. The 300 mm wafer throughput target specification for the NXE:3400B is larger than or equal to 125 wafers per hour under the following conditions: Dose: 20mJ/cm2, die size: 26 x 33 mm, 96 shots.ドキュメント
ドキュメントなし
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 昨日
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
141961
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
ASML
TWINSCAN NXE:3400B
カテゴリ
Steppers & Scanners
最終検証： 昨日
主なアイテムの詳細
状態：
Used
稼働ステータス:
不明
製品ID：
141961
ウェーハサイズ：
12"/300mm
ヴィンテージ：
不明
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Available
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Third-generation EUV systems ASML’s TWINSCAN NXE:3400B supports EUV volume production at the 7 and 5 nm nodes. The 300 mm wafer throughput target specification for the NXE:3400B is larger than or equal to 125 wafers per hour under the following conditions: Dose: 20mJ/cm2, die size: 26 x 33 mm, 96 shots.ドキュメント
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